Intel es la primera en disponer de maquinaria High NA EUV para la fabricación de chips avanzada

Intel ya tiene en sus instalaciones de fabricación de chips la maquinaria específica de litografía High NA EUV, siendo los primeros de la industria en disponer de esta tecnología para la fabricación de chips a escala comercial.La maquinaria en concreto, un escáner litográfico, se encuentra en las instalaciones de Hillsboro, Oregón, y está fabricada por el principal desarrollador de este tipo de sistemas para la creación de chips avanzados: ASML. La compañía ya ha conseguido el hito de ser los primeros en crear líneas con la tecnología High NA EUV de tan solo 10 nanómetros.

La tecnología High NA EUV permitirá a la compañía mejorar las capacidades de fabricación en futuros procesos avanzados que lleguen después del proceso Intel 18A. Intel espera aprovecharla en la fabricación a gran escala de chips a partir de la segunda mitad de esta década, es decir, a partir del 2025.

Eso supone el uso de esta tecnología en los nuevos procesos Intel 14A y 14A-E de próxima generación.

Intel asegura que esta tecnología High NA EUV (0,55NA EUV) permitirá un mayor contraste de imagen, permitiendo el uso de menos luz por cada exposición en el proceso de litografía, para conseguir una reducción de tiempo de fabricación respecto de la tecnología 0,33NA EUV actual.

En concreto, la compañía pretende conseguir la impresión de elementos en los chips 1,7 veces más pequeños que en la actualidad, con una densidad 2,9 veces más alta.

La tecnología High NA EUV de Intel solamente se utilizará, al menos inicialmente, en partes críticas de chip donde se pueden obtener beneficios inmediatos y evitar cuellos de botella.

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